一、高精密单面光刻机工作条件:
1.安装环境:
(1)建议室温保持在25℃±2℃(77°F±3.6°F华氏)。
(2)相对湿度不超过60%。
(3)振动,因为曝光机要求很高的对准精度,故要求机器安装在无振动的地方,保持振幅不超过4μm。
(4)净化。房间的净化也很重要,特别是生产线条很细的产品,希望房间净化到100级。
2.对掩版的要求:该机对掩版厚度无要求而外形尺寸和不平整度都应符合国家标准。
二、高精密单面光刻机工作原理及结构说明:
1.术语:
本机由主机、工作台、电控箱和附件箱构成。
主机由曝光头、显微镜及显微镜移动平台、板架、承片台、Z向运动装置、五层导轨和三销找平机构等组成。
电控箱安装在工作台后面。附件箱内装有不同规格的“承片台"、“掩板架"。
2.曝光头:
(1)曝光原理:
UV-LED紫外灯发出大量紫外线光,经专用光学系统,形成均匀照明。
(2)照度不均匀性的测量及计算:
不均匀性用紫外检测计测量(UV-A型紫外辐照计)
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