HWN-P纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统，根据压电平台的移动范围，分为P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型号，具有结构紧凑、操作方便、维护简单、加工分辨率高、支持多种受体材料等特征，能广泛适用于各种微纳结构及器件制造、材料工艺探素和小规模生产。该系列产品还可根据用户特殊需求，提供定制设计和制造。
新概念技术：华维纳LDW-P系列通过激光与材料的非线性相互作用，成功突破了光学衍射极限的限制，实现了纳米尺度的加工分辨力，z小的孔洞直径可达50nm。
多受体材料：华维纳LDW-P系列通过高精度的功率调制（＜1‰），可兼容包括金属薄膜、无机相变材料、光刻胶等多种受体材料。
可靠易用性：华维纳HWN-P纳米激光直写系统拥有强大的软件功能，支持标量刻写、矢量刻写等多种刻写模式，供用户根据不同的刻写场景而选择。另外，LDW-P系列还支持样品刻写后的在线分析，使用户一站式完成设计、刻写、分析等步骤， 大大提高了工作效率。
HWN-P1500纳米激光直写系统
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