化学铜自动加药系统

化学铜自动加药系统

美国WALCHEM实用型化学铜自动加药系统系列控制器是应用光电原理在线分析电镀缸内化学沉铜、微蚀铜及化学镀镍溶液浓度的变化，能减少人工滴定检验的需要，应用在蚀铜还可以省去换缸的需要，从而节省成本，增加生产能力。

美国WALCHEM化学铜自动加药系统系列型号价钱经济，内置微处理器以菜单形式控制，能以克每升(g/L)或液盎司每加仑(oz/gal)来显示，并可透过菜单来切换镀铜或蚀铜模式免除更换控制器。可同时控制多达4个继电器，光纤光电技术，能提供稳定的、重复性的、确的浓度测量，不会受电镀缸衰老、颜色变化或沉淀物突增影响。

化学铜自动加药系统测定性能：

化学镀铜浓度范围

0.01～5.5g/L(0.001~0.73 oz/gal)

微蚀刻浓度范围

0.01～99 g/L(0.001~13.2 oz/gal)

分辨率

0.001 g/L(0.0001 oz/gal)

*确度

0.01 g/L(0.001 oz/gal)

温度范围

0～100℃（32～212°F）

温度分辨率

0.05℃

温度*确度

±0.1℃

输入电源

100～240VAC，50/60Hz8A

十多年来，奔蓝科技昆山分公司一直服务于PCB厂商、五金电镀、连接器、LCD、科研机构、高校、质量检测中心、半导体、微电子、光电子、光通讯等领域。我们提供高质量的产品和优质的服务都得到客户的奖励，在未来,我们将继续履行客户的期望、要求和需要。

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